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卤石

新虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 6.2
帖子: 15
在线: 3.6小时
虫号: 3638190
注册: 2015-01-10
专业: 机械摩擦学与表面技术

[求助] NR26-25000P负胶光刻显影不彻底，大深宽比显影后脱落基底已有7人参与

我使用的是NR26-2500P负胶，匀胶：转速3000rmp，40s；胶厚大约21-27um；前烘：均匀升温150度，保温7分钟，然后均匀冷却至室温；曝光时间：200s；后烘：均匀加热至90度，保温5分钟，然后均匀冷却至室温；显影：7-10分钟；图案是3um光栅，光栅间距5um，显影未完成图案就有脱落，光栅尺寸10um以上，边角有毛刺；请教对NR26-2500P负胶有经验的人解答相关参数？

1-150s-1.jpg

gs-100s-2 - 副本.jpg

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1楼 2015-03-11 10:49:12

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

exciting73

金虫 (著名写手)

应助: 110 (高中生)
金币: 579.9
红花: 20
帖子: 1785
在线: 272.7小时
虫号: 1946276
注册: 2012-08-19
性别: GG
专业: 半导体材料

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

引用回帖:

3楼: Originally posted by 卤石 at 2015-03-11 14:58:31
我用的就是普通热板，在净化间光刻实验室里做的，后烘温度是根据胶的说明书来的，你用过这种胶吗？我在对这种胶的参数还把握不准，上面有一张光栅图，是显影过程中张开了，是一个缝隙，有的显影掉了，有的没有，然 ...

不能问下厂家吗？
如果有脱落可能基片不干净，或是显影时间长了。