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卤石

新虫 (初入文坛)


[求助] NR26-25000P负胶光刻显影不彻底,大深宽比显影后脱落基底已有7人参与

我使用的是NR26-2500P负胶,匀胶:转速3000rmp,40s;胶厚大约21-27um;前烘:均匀升温150度,保温7分钟,然后均匀冷却至室温;曝光时间:200s;后烘:均匀加热至90度,保温5分钟,然后均匀冷却至室温;显影:7-10分钟;图案是3um光栅,光栅间距5um,显影未完成图案就有脱落,光栅尺寸10um以上,边角有毛刺;请教对NR26-2500P负胶有经验的人解答相关参数?

NR26-25000P负胶光刻显影不彻底,大深宽比显影后脱落基底
1-150s-1.jpg


NR26-25000P负胶光刻显影不彻底,大深宽比显影后脱落基底-1
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
看不明白你的图。
就问一句,厚胶边去了没有?
6楼2015-03-13 16:14:44
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