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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 求助制备30微米厚的二氧化硅(SiO2)的方法？
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LC_yang

铜虫 (小有名气)

[求助] 求助制备30微米厚的二氧化硅(SiO2)的方法？ 已有1人参与

我个人想做一种人工微结构，设计需要：二氧化硅层的厚度是30微米，请教哪位大神能告诉我有没有可能制备出来？
对工艺本人不慎了解！谢谢
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研究光学工程
1楼 2015-01-21 17:49:11
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盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
LC_yang: 金币+5, ★★★很有帮助, 有帮助，请再详细一些，谢谢 2015-01-23 09:37:44
看你在什么衬底上制备了，以及你的衬底能耐受的温度。使用PECVD,湿法氧化和干法氧化都可以在硅片上制备二氧化硅
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2楼2015-01-21 21:17:57
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LC_yang

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 盟维科技 at 2015-01-21 21:17:57
看你在什么衬底上制备了，以及你的衬底能耐受的温度。使用PECVD,湿法氧化和干法氧化都可以在硅片上制备二氧化硅

你好，我设计的结构是透光的，所以衬底是透光的应该就可以。只是我不知道常用的都有什么衬底，在网上能找到一些制备SiO2的方法以及文献，但是没有提到能够做30微米厚的，你说的方法也有人说可以，能到30微米厚吗？谢谢
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研究光学工程
3楼2015-01-22 12:46:45
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