2楼: Originally posted by yswyx at 2014-12-25 03:46:36
PI本来就是用来做钝化的，所以溶剂对它没用。
只能用O2 plasma来搞，而且也是最安全保险的方法。
如果想要快速的话，弄台微波plasma的机器好了。

3楼: Originally posted by czz_iecas at 2014-12-25 09:02:23
谢谢回复，那不知道拿PI做牺牲层的都怎么去除？干法肯定不好使
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4楼: Originally posted by 石银东 at 2014-12-25 09:15:12
楼上所说的【O2 plasma】就是等离子清洗器，使用氧气作为工作介质。
但是，一般小型的等离子清洗器只是用来实现清洗和活化功能，基本没有用来进行刻蚀的，而且即使使用刻蚀的效果也不会太好。
等离子清洗过程是超 ...

5楼: Originally posted by yswyx at 2014-12-25 18:41:28
用PI做牺牲层的全部都是用干法，没别的招儿。...

6楼: Originally posted by czz_iecas at 2014-12-25 23:43:29
我们是用国内微电子中心生产的RIE设备打氧清洗，去胶效果也还行，但是PI太难去了，很慢
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9楼: Originally posted by lixuef620 at 2014-12-29 16:05:31
用碱应该可以哦。