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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 如何使硅片表面的二氧化硅薄膜产生多孔
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萧何0217

至尊木虫 (职业作家)

[求助] 如何使硅片表面的二氧化硅薄膜产生多孔 已有3人参与

我想请问一下，如何处理使硅片表面的二氧化硅薄膜产生多孔，这样可以吸附我的液态前驱体材料
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1楼 2014-11-27 20:23:08
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萧何0217

至尊木虫 (职业作家)
引用回帖:
7楼: Originally posted by yswyx at 2014-12-01 10:13:36
微米级用普通光刻，然后HF腐蚀。
纳米级用电子束光刻，然后HF腐蚀。
其实麻烦的是你的硅层一旦暴露空气，就会产生原生氧化层。所以你得到的是完全被二氧化硅覆盖的硅表面。不知道这是否影响你的吸附要求。...

影响不大.谢谢
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正天地所不正，判黑白所不判，犯人鬼所不犯，破日月所不破。
8楼2014-12-01 12:42:37
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
萧何0217: 金币+5, ★有帮助 2014-11-29 21:15:47
这个没了解过，一般来说湿法刻蚀应该可以
赞一下 回复此楼
我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
2楼2014-11-29 14:00:16
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
萧何0217: 金币+5, ★★★很有帮助 2014-11-30 19:39:59
要规律的多孔还是随机的？
赞一下 回复此楼
3楼2014-11-30 12:03:01
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萧何0217

至尊木虫 (职业作家)
引用回帖:
3楼: Originally posted by exciting73 at 2014-11-30 12:03:01
要规律的多孔还是随机的？

规律的最好，不行的话就随机，有办法吗
赞一下 回复此楼
正天地所不正，判黑白所不判，犯人鬼所不犯，破日月所不破。
4楼2014-11-30 13:36:45
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