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细线宽掩膜版 已有1人参与
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| 请问各位现在像32nm及以下尺寸线宽的Cr掩膜版是如何制作的？是电子束直写吗？在图像从光刻胶转移到铬膜上时是如何刻蚀的，如果湿法腐蚀的话铬不是各向同性的吗，那么线宽很难控制吧？望高人指点，谢谢 |
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yswyx 
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