| 查看: 1528 | 回复: 6 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
细线宽掩膜版 已有1人参与
|
||
| 请问各位现在像32nm及以下尺寸线宽的Cr掩膜版是如何制作的？是电子束直写吗？在图像从光刻胶转移到铬膜上时是如何刻蚀的，如果湿法腐蚀的话铬不是各向同性的吗，那么线宽很难控制吧？望高人指点，谢谢 |
回复此楼» 猜你喜欢
济南大学国家优青课题组 2026 调剂招生来啦
已经有0人回复
-
武汉纺织大学_化学院官方调剂群-院士团队招生-学生自由度高发展好-欢迎各位同学
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有115人回复
-
西华大学 化学 调剂有名额
已经有0人回复
-
上海应用技术大学招生调剂研究生
已经有8人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
北方工业大学储能技术-02电化学储能与氢能方向招收2026级二次调剂学生
已经有0人回复
-
求助WO3.cif文件 对应PDF卡片 43-1035，单斜晶系 , P21/n 。
已经有1人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 在用ledit制作掩膜版，可以把matlab做的图导入进去吗？
已经有9人回复
- 寻找掩膜材料，提高深宽比
已经有8人回复
 本帖仅楼主可见 |
4楼2020-01-30 12:16:55
2楼2016-05-29 13:22:19
3楼2016-05-29 19:58:04
babyoflion
金虫 (著名写手)
- 应助: 183 (高中生)
- 金币: 4776.5
- 散金: 301
- 红花: 30
- 帖子: 2507
- 在线: 671.9小时
- 虫号: 2297725
- 注册: 2013-02-25
- 性别: GG
- 专业: 光学
5楼2020-02-03 08:20:44
