| 查看: 2035 | 回复: 10 | |||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||||
firstlaker金虫 (正式写手)
|
[求助]
光刻后腐蚀掉铁膜 已有3人参与
|
||||
| 如题。我想做铁膜的pattern，发现lift -off 工艺做得不是很好。pattern直径1um左右，厚度45nm,间距2um左右。磁控溅射镀膜后，再经电子束光刻，然后去掉基片上的未被胶覆盖的铁膜，有合适的溶液么？电子束光刻时要使用什么样的胶才好？ |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 半导体发光 |
» 本帖@通知
» 猜你喜欢
温州大学王娟课题组2026年招生
已经有10人回复
-
温州大学2026年招生（化学、材料）
已经有10人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有140人回复
-
招生负责_院士团队_学生高自由度成长_擅长学生培养
已经有5人回复
-
温州大学招收2026年入学博士研究生（化学、材料、环境）
已经有10人回复
-
非晶合金
已经有2人回复
-
院士团队-每届学生都优秀-高自由度-团队氛围好
已经有0人回复
-
求调剂
已经有1人回复
-
化工学院（学院正式调剂群+联系方式）
已经有0人回复
-
化工学院（学院官方群）-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟高效
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 进行光刻之后的刻蚀，有什么腐蚀液能刻蚀掉ITO，而不跟SiO2、SnO2反应？
已经有12人回复
- 想在衬底上做有图案的电极，光刻以后，怎么把不需要的电极部分腐蚀掉
已经有10人回复
- 盐酸做 ITO 腐蚀，AZ5214光刻胶做掩膜
已经有6人回复
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
|
强烈不建议用腐蚀，因为侧向腐蚀非常严重，而且很不均匀。即使反应很剧烈，也很难得到图形边缘光滑的结果。所以只能用IBE来做，直接离子轰击，形貌做出来会很好。 至于光刻，既然要的是圆形，那么1um的图形肯定是用电子束做的好，光学光刻不能让图形的圆周达到完美的效果，分辨率肯定不够。应助不代表有帮助，自己仔细分辨。 你需要的电子束胶似负胶，常用的SAL601，不是很好买。可以用microresist的Negative Photoresist mr-EBL 6000.3，匀300nm的厚度做光刻，然后去做IBE，苏州锐材应该有现货，或者直接找他们做加工。 |
9楼2014-09-26 17:54:51
lee0803
木虫 (小有名气)
- 应助: 34 (小学生)
- 金币: 2591.4
- 散金: 863
- 红花: 2
- 帖子: 155
- 在线: 253.4小时
- 虫号: 3087972
- 注册: 2014-03-25
- 性别: MM
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
2楼2014-09-25 14:39:53
exciting73
金虫 (著名写手)
- 应助: 110 (高中生)
- 金币: 579.9
- 红花: 20
- 帖子: 1785
- 在线: 272.7小时
- 虫号: 1946276
- 注册: 2012-08-19
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
3楼2014-09-25 16:15:29
firstlaker
金虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 795.7
- 散金: 30
- 红花: 5
- 帖子: 393
- 在线: 153.2小时
- 虫号: 2870009
- 注册: 2013-12-14
- 专业: 光学
4楼2014-09-25 17:19:42
