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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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firstlaker

金虫 (正式写手)

[求助] 光刻后腐蚀掉铁膜 已有3人参与

如题。我想做铁膜的pattern，发现lift -off 工艺做得不是很好。pattern直径1um左右，厚度45nm,间距2um左右。磁控溅射镀膜后，再经电子束光刻，然后去掉基片上的未被胶覆盖的铁膜，有合适的溶液么？电子束光刻时要使用什么样的胶才好？
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1楼 2014-09-25 10:33:45
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

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感谢参与，应助指数 +1
这么大的pattern没必要用电子束曝光吧？用普通的光刻胶就可以了，电子束胶比较贵。
为什么磁控溅射镀膜之后才进行电子束光刻？要用湿法腐蚀去掉铁膜吗？直接用lift-off工艺不好吗？
我们这边用普通光刻胶、电子束胶以及腐蚀液，有需要站内联系。
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3楼2014-09-25 16:15:29
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lee0803

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
firstlaker: 金币+10, ★★★很有帮助 2014-09-26 12:38:55
用NaCl 溶液腐蚀，一般用置换反应来腐蚀铁。
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2楼2014-09-25 14:39:53
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firstlaker

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by exciting73 at 2014-09-25 16:15:29
这么大的pattern没必要用电子束曝光吧？用普通的光刻胶就可以了，电子束胶比较贵。
为什么磁控溅射镀膜之后才进行电子束光刻？要用湿法腐蚀去掉铁膜吗？直接用lift-off工艺不好吗？
我们这边用普通光刻胶、电子束 ...

1um的话，光刻就比较困难了。
lift-off工艺做出来的，往往再磁控溅射后边缘质量很差，有几百个纳米高，这样的pattern不符合我们的要求。
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4楼2014-09-25 17:19:42
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exciting73

金虫 (著名写手)
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引用回帖:
4楼: Originally posted by firstlaker at 2014-09-25 17:19:42
1um的话，光刻就比较困难了。
lift-off工艺做出来的，往往再磁控溅射后边缘质量很差，有几百个纳米高，这样的pattern不符合我们的要求。...

哦，明白。如果腐蚀质量要求不高的话可以自己配点NaCl水溶液，或者用酸腐蚀也可以。需要电子束胶请站内联系。
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5楼2014-09-25 22:23:53
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