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firstlaker金虫 (正式写手)
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光刻后腐蚀掉铁膜 已有3人参与
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| 如题。我想做铁膜的pattern，发现lift -off 工艺做得不是很好。pattern直径1um左右，厚度45nm,间距2um左右。磁控溅射镀膜后，再经电子束光刻，然后去掉基片上的未被胶覆盖的铁膜，有合适的溶液么？电子束光刻时要使用什么样的胶才好？ |
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