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firstlaker

金虫 (正式写手)

[求助] 光刻后腐蚀掉铁膜 已有3人参与

如题。我想做铁膜的pattern,发现lift -off 工艺做得不是很好。pattern直径1um左右,厚度45nm,间距2um左右。磁控溅射镀膜后,再经电子束光刻,然后去掉基片上的未被胶覆盖的铁膜,有合适的溶液么?电子束光刻时要使用什么样的胶才好?
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firstlaker

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by lee0803 at 2014-09-25 14:39:53
用NaCl 溶液腐蚀,一般用置换反应来腐蚀铁。

我试了下,NaCl不太好,可能是我用得比较稀的关系。
后面我用HNO3试了下,可以腐蚀掉铁,但是边缘的情况也不怎么好,最后得到的铁膜的厚度也存在问题。
6楼2014-09-26 12:40:31
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lee0803

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
firstlaker: 金币+10, ★★★很有帮助 2014-09-26 12:38:55
用NaCl 溶液腐蚀,一般用置换反应来腐蚀铁。
2楼2014-09-25 14:39:53
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
感谢参与,应助指数 +1
这么大的pattern没必要用电子束曝光吧?用普通的光刻胶就可以了,电子束胶比较贵。
为什么磁控溅射镀膜之后才进行电子束光刻?要用湿法腐蚀去掉铁膜吗?直接用lift-off工艺不好吗?
我们这边用普通光刻胶、电子束胶以及腐蚀液,有需要站内联系。
3楼2014-09-25 16:15:29
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firstlaker

金虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by exciting73 at 2014-09-25 16:15:29
这么大的pattern没必要用电子束曝光吧?用普通的光刻胶就可以了,电子束胶比较贵。
为什么磁控溅射镀膜之后才进行电子束光刻?要用湿法腐蚀去掉铁膜吗?直接用lift-off工艺不好吗?
我们这边用普通光刻胶、电子束 ...

1um的话,光刻就比较困难了。
lift-off工艺做出来的,往往再磁控溅射后边缘质量很差,有几百个纳米高,这样的pattern不符合我们的要求。
4楼2014-09-25 17:19:42
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