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junshane

木虫 (正式写手)

[求助] 二氧化硅表面疏水改性问题,望高手指教,谢谢! 已有7人参与

最近课题在做一块超疏水的二氧化硅纳米颗粒,初步方案是采用十二烷基三乙氧基硅烷去修饰SiO2,想着应该很简单能够做出来,可是最后得到的产物总是亲水的,具体的步骤如下:1g SiO2溶在100ml乙醇中,恒温70℃条件下加入10ml的乙醇/硅烷混合溶液(其中十二烷基三乙氧基硅烷2ml),反应4~5个小时后,离心数次90℃干燥。望高手指点,其中是否有误。PS:二氧化硅尺寸200nm左右,其表面的羟基量对于本实验是否有点少?是否采用全氟硅烷会更好一点?
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5henJD

铁杆木虫 (著名写手)

技术宅

【答案】应助回帖

引用回帖:
8楼: Originally posted by junshane at 2014-09-11 14:32:28
温度很重要,麻烦您详细说明一下,谢谢!...

我用的改性剂跟你不一样。我用的六甲基二硅氮烷,体系跟你不一样。我这个体系可以使用高温,150+,高温一定程度上也可以去羟基。具体你可以搜一下六甲基二硅氮烷改性的文章。

[ 发自小木虫客户端 ]
这个人以固执著称
9楼2014-09-11 14:47:11
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yeyu4417

至尊木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
junshane: 金币+5 2014-09-11 09:45:21
硅烷要水解,才能对粉体表面进行处理,建议,稍微来点水。
2楼2014-09-11 06:58:29
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junshane

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yeyu4417 at 2014-09-11 06:58:29
硅烷要水解,才能对粉体表面进行处理,建议,稍微来点水。

我加1ml 28%的氨水进去,是否可行?
3楼2014-09-11 09:45:11
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junshane

木虫 (正式写手)

没人来解我的困惑吗?
4楼2014-09-11 10:24:22
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