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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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chc33

新虫 (初入文坛)

[求助] ICP刻蚀驼峰 已有3人参与

各位好,最近小弟在做ICP刻蚀SiO2,但发现刻蚀出来的图形沟槽里面有驼峰状的结构,本来沟槽里应该是平坦的呀,不知道是什么原因或这是什么现象,望高手指点指点,万分感激!
我用CHF3和Ar作为刻蚀气体,比例100:20,气压0.2Pa

ICP刻蚀驼峰
图像 1.jpg
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
有没有可能是光刻胶显影不干净,有些残胶在底部?用的是负胶还是正胶?哪个型号的?
2楼2014-07-10 14:26:59
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chc33

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by exciting73 at 2014-07-10 14:26:59
有没有可能是光刻胶显影不干净,有些残胶在底部?用的是负胶还是正胶?哪个型号的?

您好,非常感谢您的回复,我用的Cr掩膜,表面我用SEM看了很干净的。
3楼2014-07-10 15:54:12
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senpeng

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

可能基片晶向的问题吧,各向异性刻蚀

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
4楼2014-09-21 10:14:13
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

对于垂直度的控制,主要是要调节ICP刻蚀过程中化学腐蚀与物理刻蚀的比例,也就是要控制刻蚀时候的选择比,对于选择比,影响因素很多,比如说RF与ICP功率之比,刻蚀气体内CHF3所占比例,有没有通Ar气等等,这些都会有影响!还是要自己试验咯!
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
5楼2014-09-21 10:29:18
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