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liuotto木虫 (正式写手)
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循环伏安扫速与扩散 求助 已有2人参与
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一篇文章审稿人提到的问题不知道如何解答，望诸位高手相助。 1. Similarly, it is no correct to affirm that the process is a diffusion-controlled one only because the peak current grows in a linear fashion with square root of the scan rate. 审稿人说，不能仅从峰电位与扫速的开方成正比而推断出电化学过程为扩散控制。 我的疑问是，还需要哪些其他的条件？ 2.Finally, the origin of non-zero intercepts on the current potential scan rate (square root) is unclear and against fundamental electrochemical relathionships (Randles Sevcik equation). this does require clarification and correction? has the background not (or incoreectly) subtracted? 这一条改如何回答？可能是什么原因？如果有相关文献麻烦给出。 文章的内容是特殊形貌的氢氧化镍负载在石墨烯上用来做赝电容型电容器电极材料，三电极体系，电解液为KOH，集流体为泡沫镍。 涉及到的图如下：  相关的段落如下： Moreover, the shapes of the CV curves are similar as the scan rates increase from 5 mV s−1 to 40 mV s−1, showing anodic and cathodic peaks and indicating that a fast redox reaction occurred at the interface of the electroactive materials and the electrolyte. With increase in the scan rate, the measured specific current increases and the anodic and cathodic peaks shift positively and negatively, respectively. This is due to the diffusion extent of OH− into the XXX matrix at various scan rates. Besides, the anodic current (Ip) increase linearly with the square root of the scan rate (v1/2) at all scan rates (Fig. 6b), indicating the redox reaction of XXX in KOH solution is a diffusion-controlled process. 在线等，非常感谢！ |
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我觉得吧 应该再作一个i-v的图 如果这个是非线性的，那就可以说是扩散控制了 就像是必要不充分条件 类似的 第2个 是这样的 因为根据那个啥啥方程，得出的截距应该是零才对，这也是为什么能够说明i-v^(1/2)图如果是直线的话就是扩散控制的原因。你这个明显是不为零的，这就要详细说明的 我给个建议哦，既然有石墨烯，那肯定是有双电层电容存在的，估计这也是造成截距不为零的最主要原因，具体的。。。楼主思考吧 以上纯属个人观点 |
4楼2014-07-05 20:14:05
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