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xinxinqi

金虫 (小有名气)

[求助] 请教大家关于光生电子空穴复合的问题 已有1人参与

本人正在进行光阳极的设计,用来光电催化氧化水的,电极的基础是在FTO玻璃上生长了TiO2,然后希望负载一个催化剂,该催化剂已证实对可见光有吸收,而且是一个光催化氧化水的催化剂,该催化剂的导带位置高于TiO2的导带位置,催化剂的价带位置也高于TiO2的价带位置。
问题是:如果这样的催化剂生长在TiO2后,光电流强度还不如原来的TiO2,那么原因会不会是TiO2的光生电子与催化剂的光生空穴发生复合呢?(我使用的是未过滤紫外光的光源)
或者各位大牛认为还有什么别的原因导致光电流下降?
不吝赐教,小女子先谢过大家
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xinxinqi

金虫 (小有名气)

请各位给予帮助~~~谢谢~~~自己顶上来~~~
2楼2014-04-27 19:12:10
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knightxx

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
xinxinqi: 金币+10, ★★★很有帮助, 感谢您的回答!我负载的催化剂确实在导电性上不是很好,但我负载的厚度挺薄的,您提到的第3点我倒是没有考虑过,不知您认为在-1 V vs Ag/AgCl的电压下短时间反应(数十秒)对TiO2的结构会不会有破坏?XRD结果似乎并未显示有结构上的变化 2014-04-28 16:00:49
我觉得可能的原因有很多种,这种type2 的接触是可以增强电荷分离的,不太可能是电荷复合引起的,最好照电镜看一下。
1、如果是工艺的问题,可能电极的接触和封装没做好,电极表面污染等问题,多重复几组。
2、负载的催化剂导电性是不是很好,看是不是做的太厚了。
3、负载催化剂的过程中有没有把原来的结构破坏了。
3楼2014-04-28 09:51:46
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