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读书湖朱哥

新虫 (初入文坛)

[求助] 硅基金电极的刻蚀液选择 已有1人参与

我做了一个硅基镀金片,用光刻将金电极图案做出来了,采用KI+I2+H2O的刻蚀液将多余金去除,用万用表测量后发现电极是导通的,可能是在金膜下面还有一层过渡金属铬或钛,我现在已经将光刻胶去除过了。
想问下:
       1)去除铬选择什么刻蚀液,刻蚀速率如何控制?
       2)去除钛选择什么刻蚀液,速率能否控制?
       3)我刻蚀金后将光刻胶用丙酮去除了,现在刻蚀上面两种金属需要重新做光刻吗?
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yswyx

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【答案】应助回帖

铬腐蚀液用硝酸铈铵的某些溶液
钛用硝酸
配比真心不记得了,beckeley有一个列表,把常用的刻蚀和腐蚀的recipe都列出来了,你可以去他们网站下载。
不用重新做光刻,一般种子层的金属只有几个纳米,腐蚀液一漂就掉了。
2楼2014-04-18 18:06:33
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Tabris_L

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-04-18 18:06:33
铬腐蚀液用硝酸铈铵的某些溶液
钛用硝酸
配比真心不记得了,beckeley有一个列表,把常用的刻蚀和腐蚀的recipe都列出来了,你可以去他们网站下载。
不用重新做光刻,一般种子层的金属只有几个纳米,腐蚀液一漂就掉 ...

请问一下那个列表的地址,谢谢啦
3楼2016-03-24 21:15:46
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zhizhigaoxin

新虫 (小有名气)

1.铬刻蚀用硝酸+硝酸铈铵的溶液,刻蚀速率看要求调配比和加入缓蚀剂等添加剂

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4楼2017-11-02 11:27:43
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zhizhigaoxin

新虫 (小有名气)

2. 钛用钛钨刻蚀液,主成分是硝酸,调整配比也可以控制速率

发自小木虫Android客户端
5楼2017-11-02 11:29:19
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zhizhigaoxin

新虫 (小有名气)

3. 不用重新做光刻,专用刻蚀液只针对特定金属刻蚀,金层不会被刻蚀,但要控制刻蚀速率,不然侧蚀会很严重

发自小木虫Android客户端
6楼2017-11-02 11:31:37
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