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介孔材料的小角度XRD图（SAXS）-求解释
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我制备了Fe3O4@nSiO2@mSiO2，最外层是一层介孔SiO2，这种材料应该具有有序六方介孔结构。我已经做了氮气吸脱附曲线，和文献中的差不多，但是小角度XRD却和文献中相差很大。我看的三篇文献中都是在2θ=2~3之间有一个大的峰。但我的却在2θ=0.5-2之间有一个小的峰，不明白这是为什么啊。难道是仪器的问题，还是我制备的材料有问题，还是怎么着啊。 我上传了截图，第一个是在2θ=1~10范围内扫的。第二个是在0-10范围内扫的。第三个是装测试样品的东西是塑料做的（前两个均是玻璃做的），扫描角度是1-10. |
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2014-03-23 18:50:34, 44.5 K
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 XRD峰偏移 |
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8楼2014-03-26 09:59:41