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求助，硅粉经氧化后XRD特征峰都小角度偏移？
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求助大家 我姜硅粉氧化处理后，变成Si-SiO2 测试XRD后 特征峰都整体左移。并且随着处理温度的升高，越偏左。 如图？ 角度变小, d变大，是氧引起的吗“？但是硅中氧原子加入，由于氧的半径小于硅 应该是使d变小呀？ 这个究竟什么原因呢。 请大家赐教。  硅粉.jpg |
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