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l577997201

金虫 (正式写手)

[求助] 二氧化硅表面为什么会有羟基啊 已有3人参与

二氧化硅表面羟基存在原因是正硅酸乙酯水解还是二氧化硅表面吸附水中的氢氧根粒子造成的啊？？
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1楼 2014-03-09 21:01:06
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眼镜片1

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
l577997201: 金币+3 2014-03-10 08:54:06
貌似这个羟基即使是经过了接枝处理等等 还是存在的 至于最最根本的基础原因   确实不是很清楚

关于二氧化硅表面的羟基  在红外峰上面的   1700处  是吸附水造成的  在3100-3500处  是表面的羟基
因此  这个是两方面都有
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2楼2014-03-10 08:43:49
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眼镜片1

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by 万德尔 at 2014-03-10 08:56:49
问题是如何去除！

在合成的时候 加入一些含还有烷烃的硅烷（仅对于sol-gel法制备）可以尽量的实现减少  但是想要完全去除  很难很难  但是可以明显的减少羟基含量   在红外峰上面  羟基峰变得很不明显
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4楼2014-03-10 08:59:29
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眼镜片1

银虫 (著名写手)
引用回帖:
13楼: Originally posted by qwt243120621 at 2014-09-16 18:54:51
还有请教一下，这位兄弟！有什么方法可以诂数纳米二氧化硅表面有多少羟基呢？...

核磁
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14楼2014-09-16 19:40:45
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眼镜片1

银虫 (著名写手)
引用回帖:
15楼: Originally posted by qwt243120621 at 2014-09-17 09:02:28
可惜我们学校没有核磁，其实我想用偶联剂处理粉体时知道要用多少的偶联剂？...

那你没必要用核磁了  这个不是说有多少你就能接上去不少的   和你接枝过程的溶剂、温度、颗粒分散程度等等都相关   
你测表面羟基多少没多大意义
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16楼2014-09-17 10:03:22
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