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纳米二氧化硅表面偶联剂预处理怎么做
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hupeta
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纳米二氧化硅表面偶联剂预处理怎么做
我是高分子专业的,最近用到纳米二氧化硅,但不知道这个怎么用偶联剂进行预处理,求哪位大侠给指点,求具体步骤。谢谢了
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1楼
2013-03-04 12:25:35
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banye0405
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2013-03-13 08:04:41
hupeta(sddtc888代发): 金币+2
2013-04-30 22:35:23
是要做分散吗?气相二氧化硅是比较容易分散的,不做预处理也可以的。至于设备,也可以给你推荐,比如:球磨仪,高压微射流均质分散机、超声波分散机。不建议用砂磨,因为砂磨速度达到一定程度后剪切的效果就不明显了。我是做纳米材料(金属、氧化物混合物)的分散的。自己积累了一点经验。希望能帮到你。
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莫向失败找借口,要向成功要方法
2楼
2013-03-04 12:38:53
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hupeta
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专业: 应用高分子化学与物理
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2楼
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banye0405
at 2013-03-04 12:38:53
是要做分散吗?气相二氧化硅是比较容易分散的,不做预处理也可以的。至于设备,也可以给你推荐,比如:球磨仪,高压微射流均质分散机、超声波分散机。不建议用砂磨,因为砂磨速度达到一定程度后剪切的效果就不明显了 ...
是粉粒状的,我看有些文献有预处理,有的没用,我的目的确实是分散,是不是做不做这个预处理影响不大啊,直接用超声分散就可以,如果用,加那个偶联剂是怎么加法?谢谢你了
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3楼
2013-03-04 13:58:28
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2013-03-13 08:04:50
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3楼
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hupeta
at 2013-03-04 13:58:28
是粉粒状的,我看有些文献有预处理,有的没用,我的目的确实是分散,是不是做不做这个预处理影响不大啊,直接用超声分散就可以,如果用,加那个偶联剂是怎么加法?谢谢你了...
二氧化硅的预处理,我真没做过,都是直接分散的,而且效果很好,要说预处理的目的,是在纳米颗粒表面形成一种交联网状的结构,防止再次团聚的。如果是气相的二氧化硅,我觉得没必要预处理。
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莫向失败找借口,要向成功要方法
4楼
2013-03-04 14:58:53
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2013-03-13 08:04:57
hupeta(sddtc888代发): 金币+2
2013-04-30 22:35:35
硅烷偶联剂、一定量的水和二氧化硅加入烧瓶中,温度控制在60-80度,加热搅拌;温度低时间可以在8h左右;加热温度高,时间适当延长。就可以了,我建议时间久点会好一些。
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2013-03-05 10:39:03
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2013-03-13 08:05:03
基本是按5楼的做,如果要分散好,用带剪切的分散机效果会更好点。
此外有一些二氧化硅买就处理过的,更容易分散。
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烟何渺渺,水何潇潇;江山苍莽,若近若遥.雨随风飘,人间逍遥;款款落断,仗剑狂笑!
6楼
2013-03-05 17:34:21
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5楼
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yachongqing
at 2013-03-05 10:39:03
硅烷偶联剂、一定量的水和二氧化硅加入烧瓶中,温度控制在60-80度,加热搅拌;温度低时间可以在8h左右;加热温度高,时间适当延长。就可以了,我建议时间久点会好一些。
同学,能再问你一下么,这样做后再做超声分散是不是效果要比单独做超声分散要好,还有这个偶联剂是以什么形式带入到纳米二氧化硅的?附在上面还是?谢谢你了
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2013-03-06 20:36:32
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用酒精和水做溶剂,加入SiO2和硅烷偶联剂,充分搅拌分散,反映一段时间,抽滤混合液,再将得到的滤饼用研钵研磨,即可得到改性的SiO2粉体
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8楼
2013-12-07 21:21:06
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5楼
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yachongqing
at 2013-03-05 10:39:03
硅烷偶联剂、一定量的水和二氧化硅加入烧瓶中,温度控制在60-80度,加热搅拌;温度低时间可以在8h左右;加热温度高,时间适当延长。就可以了,我建议时间久点会好一些。
如果想用保护气体,那怎么加料
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9楼
2014-06-30 14:44:28
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8楼
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wzd804034945
at 2013-12-07 21:21:06
用酒精和水做溶剂,加入SiO2和硅烷偶联剂,充分搅拌分散,反映一段时间,抽滤混合液,再将得到的滤饼用研钵研磨,即可得到改性的SiO2粉体
那请问KH570和乙醇水的配比是多少,KH570与粉体的比是否为05%~2%
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10楼
2016-01-07 17:47:31
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