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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 没有紫外曝光机做光刻这样做可以吗？
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东方欲晓

铁虫 (小有名气)

[求助] 没有紫外曝光机做光刻这样做可以吗？ 已有1人参与

没有紫外曝光设备，能不能用带有结构的金属掩膜版掩膜，用紫外灯照射一下，然后显影定影；就是想用光刻胶做掩膜，在特定区域里沉积材料，对精度不做要求。
这样做靠谱吗？
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1楼 2014-02-22 18:25:23
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东方欲晓

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-02-25 16:34:43
可以的，不用光刻胶都可以。直接用你的金属掩模版做掩蔽，也可以直接沉积，就像IBM的C4工艺。
如果觉得精度不够，一定要采用光刻。建议用制造PCB版的光敏干膜，工艺更简单，对曝光的要求更低，比较容易实现。

可能怪我没说清楚，沉积材料的方法是电化学沉积
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3楼2014-02-25 22:56:11
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
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东方欲晓: 金币+5, ★有帮助 2014-02-25 22:55:14
可以的，不用光刻胶都可以。直接用你的金属掩模版做掩蔽，也可以直接沉积，就像IBM的C4工艺。
如果觉得精度不够，一定要采用光刻。建议用制造PCB版的光敏干膜，工艺更简单，对曝光的要求更低，比较容易实现。
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2楼2014-02-25 16:34:43
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 东方欲晓 at 2014-02-25 22:56:11
可能怪我没说清楚，沉积材料的方法是电化学沉积...

如果是电化学沉积，最好是用正经的光刻机来做厚胶光刻。PCB的方法，手艺要好，否则还是容易出缺陷。
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4楼2014-03-07 15:46:41
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