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没有紫外曝光机做光刻这样做可以吗?
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东方欲晓
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没有紫外曝光机做光刻这样做可以吗?
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没有紫外曝光设备,能不能用带有结构的金属掩膜版掩膜,用紫外灯照射一下,然后显影定影;就是想用光刻胶做掩膜,在特定区域里沉积材料,对精度不做要求。
这样做靠谱吗?
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1楼
2014-02-22 18:25:23
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东方欲晓: 金币+5,
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2014-02-25 22:55:14
可以的,不用光刻胶都可以。直接用你的金属掩模版做掩蔽,也可以直接沉积,就像IBM的C4工艺。
如果觉得精度不够,一定要采用光刻。建议用制造PCB版的光敏干膜,工艺更简单,对曝光的要求更低,比较容易实现。
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2楼
2014-02-25 16:34:43
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2楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2014-02-25 16:34:43
可以的,不用光刻胶都可以。直接用你的金属掩模版做掩蔽,也可以直接沉积,就像IBM的C4工艺。
如果觉得精度不够,一定要采用光刻。建议用制造PCB版的光敏干膜,工艺更简单,对曝光的要求更低,比较容易实现。
可能怪我没说清楚,沉积材料的方法是电化学沉积
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3楼
2014-02-25 22:56:11
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3楼
:
Originally posted by
东方欲晓
at 2014-02-25 22:56:11
可能怪我没说清楚,沉积材料的方法是电化学沉积...
如果是电化学沉积,最好是用正经的光刻机来做厚胶光刻。PCB的方法,手艺要好,否则还是容易出缺陷。
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4楼
2014-03-07 15:46:41
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