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关于恒流电化学沉积过程的过电位
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关于恒流电化学沉积过程的过电位
给定galvanostatic electrodeposition的电流密度,在Au seed layer上沉积铜,阴极试样有两种,一种是5×15mm,一种是25um直径的焊盘阵列,通过记录的Potential对时间的曲线及所测的open curcuit potential,前一种的过电位要比后一种高很多很多,请问这是因为什么,如何解释。
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2008-01-21 01:57:45
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martintienwoo(金币
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cooboo(金币
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可能原因:
1.Au seed layer上沉积铜,对5×15mm没有完全覆盖;
2.溶液电阻较大;
3.电位测量回路阻抗不够高
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2008-01-21 08:13:01
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martintienwoo(金币
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cooboo(金币
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):谢谢回复
电极5mm×15mm=75mm2
而直径为25mm的圆盘面积约为490mm2
你给定的是电流还是电流密度?如果是电流的话,电流密度可就差远了。
如果是电流密度,这个到不是原因。
阴极与阳极之间的距离一样吗?距离差较多,也可能是液体电阻的原因。
电极形状?
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3楼
2008-01-21 09:13:49
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我给定的是电流密度。对于开路电位用圆盘阵列的情况要小很多,大约70mV左右,而用长方形电极的开路电位约为400多mV。
圆盘电极阵列的总面积大约20mm2
溶液是相同的,溶液的电阻应该不是问题。由于两种电极跟电极holder连接方式不同,电阻可能会有较大差别。长方形电极的情况下,连接处的接触电阻应该较大,因为seed layer很薄,用螺丝一夹可能仅有一些点接触,导致电阻较大。另外的一种与电极holder的连接方式是通过银导电胶连接。如果电阻确实不同的话,那么怎么解释两者的过电位差别,还有怎么解释两者的开路电位的差别。因为我要算过电位,是用测得的电极电位减去开路电位得到的。
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4楼
2008-01-21 23:11:07
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电化版的人气不行啊,帖子没人顶也不沉。
算了,转完金币走人,不问了。
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5楼
2008-01-23 18:04:52
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