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[交流]
关于恒流电化学沉积过程的过电位
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| 给定galvanostatic electrodeposition的电流密度，在Au seed layer上沉积铜，阴极试样有两种，一种是5×15mm，一种是25um直径的焊盘阵列，通过记录的Potential对时间的曲线及所测的open curcuit potential，前一种的过电位要比后一种高很多很多，请问这是因为什么，如何解释。 |
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