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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射中加氢会产生H+离子还是H-离子?

在磁控溅射制备很多薄膜时,都会加入一些氢气。氢气在辉光放电中会产生H+离子还是H-离子呢?

H的电离能为13.6eV,电子亲和能为-1.1eV,按说应该主要生成H-离子。但查了一些文献后似乎没得到什么明确的答案。有研究过这个问题的兄弟没?发表下看法吧。
[search]磁控溅射 氢[/search]
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渔翁860

金虫 (正式写手)

我用的是氩气,不知道加氢是怎样。等我找到了再来
2楼2008-01-10 20:39:42
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miloyy

木虫 (正式写手)

没想过这个问题,按理都是H+把,这个电子亲和能是什么意思,为负值?
3楼2008-01-10 23:45:43
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anselnew

木虫 (正式写手)

我用的是氩气,不知道加氢是怎样。估计以后用H2的可能性极小
铁电材料QQ群:16441273 欢迎做铁电材料的虫子加入
4楼2008-01-11 01:51:36
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anselnew

木虫 (正式写手)

LZ做金属膜的??
铁电材料QQ群:16441273 欢迎做铁电材料的虫子加入
5楼2008-01-11 01:52:21
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wesley

做磁控溅射的等离子应该也属于冷等离子体,其中主要物种是e,H+,H自由基,H2自由基(激发态),H2+等,H—可能会有,但非常少,而且寿命应该非常短
6楼2008-01-11 07:50:04
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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)

磁控溅射肯定还是要用Ar做溅射气体的,加氢是为了改变薄膜的一些性能,单纯的氢并不能做溅射,因为其溅射产额很低,等离子体维持困难

下面是一篇关于ECR等离子体的文献,里面提到了negative hydrogen ions
不知道在一般的直流或中频交流溅射中加氢是否也会产生H-离子

Negative hydrogen ions and evidence for a potential dip in an electron cyclotron resonance discharge for highly charged ions

Rev. Sci. Instrum Volume 69, Issue 2, pp. 1197-1199
February 1998

D. Bolshukhin, D. Meyer, U. Wolters, and K. Wiesemann
Experimentalphysik insbes. Gaselektronik, Ruhr-Universität Bochum, 44780 Bochum, Germany

By means of photo detachment we have detected negative hydrogen ions in an electron cyclotron resonance (ECR) discharge under conditions where highly charged ions are present in the plasma if hydrogen is absent. From the time delay between the laser pulse and the photodetachment (PD) signals we obtained the location of the negative ion clouds in the halo of the plasma. It  coincides with the location found for atomic hydrogen ions in previous ion cyclotron resonance heating experiments. The confinement of the  ions to these places must be due to the presence of local potential maxima. These maxima imply a potential dip in the core of the plasma. Furthermore, these H – ions indicate the presence of cold electrons even under conditions where high charge states are produced.
http://scitation.aip.org/getabs/ ... =cvips&gifs=yes

[ Last edited by Tavano on 2008-1-11 at 08:53 ]
7楼2008-01-11 08:52:09
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wolfliu

木虫 (著名写手)

自信,诚信,求实,方法。

引用回帖:
Originally posted by wesley at 2008-1-11 07:50:
做磁控溅射的等离子应该也属于冷等离子体,其中主要物种是e,H+,H自由基,H2自由基(激发态),H2+等,H—可能会有,但非常少,而且寿命应该非常短

基本赞同此观点!
不以求备取人,不以己长格物。
8楼2008-01-11 13:03:30
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wesley

溅射镀膜加氢作用是什么???

还原气氛,减少薄膜氧含量???

望高手不吝赐教
9楼2008-01-11 14:14:22
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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)

用溅射制备硅薄膜用于光电器件时加一些氢主要是为了钝化硅薄膜中的悬挂键,提高其中载流子的迁移率和寿命。只有很少的人这么做,绝大部分都用PECVD来制备含氢的硅薄膜,个人也认为sputter不是一种合适的方法。

前面我问等离子中加氢会产生H+还是H-主要是因为我觉得氢离子的正负将对薄膜中的氢含量有很大的影响。
10楼2008-01-11 15:17:07
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