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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射中加氢会产生H+离子还是H-离子?

在磁控溅射制备很多薄膜时,都会加入一些氢气。氢气在辉光放电中会产生H+离子还是H-离子呢?

H的电离能为13.6eV,电子亲和能为-1.1eV,按说应该主要生成H-离子。但查了一些文献后似乎没得到什么明确的答案。有研究过这个问题的兄弟没?发表下看法吧。
[search]磁控溅射 氢[/search]
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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)

用溅射制备硅薄膜用于光电器件时加一些氢主要是为了钝化硅薄膜中的悬挂键,提高其中载流子的迁移率和寿命。只有很少的人这么做,绝大部分都用PECVD来制备含氢的硅薄膜,个人也认为sputter不是一种合适的方法。

前面我问等离子中加氢会产生H+还是H-主要是因为我觉得氢离子的正负将对薄膜中的氢含量有很大的影响。
10楼2008-01-11 15:17:07
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渔翁860

金虫 (正式写手)

我用的是氩气,不知道加氢是怎样。等我找到了再来
2楼2008-01-10 20:39:42
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miloyy

木虫 (正式写手)

没想过这个问题,按理都是H+把,这个电子亲和能是什么意思,为负值?
3楼2008-01-10 23:45:43
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anselnew

木虫 (正式写手)

我用的是氩气,不知道加氢是怎样。估计以后用H2的可能性极小
铁电材料QQ群:16441273 欢迎做铁电材料的虫子加入
4楼2008-01-11 01:51:36
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