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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻胶都能做什么材料的掩膜
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夏至121

铁虫 (初入文坛)

[交流] 光刻胶都能做什么材料的掩膜 已有2人参与

我看有些论文，有的用光刻胶做硅材料的掩膜，有的用来做氧化硅的掩膜，但也有的材料上刻蚀硅或氧化硅的时候，不用光刻胶做掩膜而用氮化硅，到底光刻胶能用来做谁的掩膜，为什么有时候不用呢，（前期工艺，没有其他材料的影响）
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1楼 2013-11-19 10:57:34
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reninhat

铁杆木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
微加工的核心就是图形转移，实现图形转移的关键就是材料的腐蚀速率比。
需要保留图形上方的掩膜材料的相对腐蚀速率一定要比需要刻蚀区域材料的腐蚀速率低。
变来变去就这点窍门，而且就是个2D工艺而已。
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3楼2013-11-19 20:53:02
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
这需要解释的就多了去了
要看干法刻蚀还是湿法腐蚀，如果是刻蚀的话，还要看刻蚀方法，还要看气体，刻蚀深度等等。湿法的话，同样要看腐蚀液，和腐蚀的时间。光刻胶本身也要看种类，看各种属性。同时还要看其它的工艺要求，以及后续工艺步骤等等。
总之，光刻胶能做硅或者氧化硅的掩膜，但是要看具体的条件。
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2楼2013-11-19 17:42:53
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