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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 高分子 » 合成制备 » PMMA接枝到纳米二氧化硅微球表面，用HF刻蚀掉二氧化硅，怎么回收高分子？
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君子慎独

金虫 (小有名气)

[求助] PMMA接枝到纳米二氧化硅微球表面，用HF刻蚀掉二氧化硅，怎么回收高分子？

如题，我是用ＨＦ刻蚀的，刻蚀之前是分散在ＨＦ中的，但之后聚合物不容易分离出来，哪位做过相关方面的，请教一下经验、方法，不胜感激，
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谋事在人，成事在天
1楼2013-11-16 14:35:12
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君子慎独

金虫 (小有名气)
我离心之后用纯水洗了，看来这次是不行了……
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谋事在人，成事在天
5楼2013-11-21 00:12:02
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君子慎独

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by sesesy at 2013-11-16 14:46:34
先中和过量氢氟酸 再用超纯水清洗 离心 抽滤 一般方法是这样

高分子是接枝在纳米二氧化硅上的，量很少的，这样会不会不能沉淀出来呢
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谋事在人，成事在天
6楼2013-11-21 00:20:15
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君子慎独

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by kof705991 at 2013-11-16 19:44:07
直接过滤，抽干后用纯水边抽边洗

高分子是接枝在纳米二氧化硅上的，量很少的，这样会不会不能沉淀出来呢
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谋事在人，成事在天
7楼2013-11-21 00:20:28
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君子慎独

金虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 忧郁夜 at 2013-11-16 21:25:19
土豪，金币送我吧

金币砸死你算了
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谋事在人，成事在天
8楼2013-11-21 00:22:16
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