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能带结构和态密度分析
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各位老师，好。我做了一个材料的表面模型（model1），在其基础上添加了活性组分（在表面负载金属氧化物）。得到了model2和model3.并分析了它们的电子结构。得到了三个的能带结构和态密度（如附件）.随着活性组分的添加，能隙变小，这与实验观察一致。但是有老师说MS给出的能隙并不一定准确。例如，model3好像存在一个杂质能级，而这个的能隙值就不能从MS软件直接读取。另外，对于model1，相比于干净表面，其在原来带隙中间多了许多小的态密度分布。那么，我的问题是该如何分析上述模型的能隙值大小？杂质能级如何判断并怎么样影响能隙值的确定？此外，负载活性组分的模型其能带变化具有什么特点？感谢您的帮助！ model1.jpg  model2.jpg  model3.jpg |
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| 我以前做了一个半导体的时候，也是这样的情况。有两种方法解决：1. 调整smearing，然后计算，得出结果和一个容易找到的实验结果来对比，确定合适的smearing。。。2. 找个实验结果，然后直接对DOS进行放大处理，就是拉伸。我有个文章就是这样的，欢迎拍砖。。。。http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/sia.5253/full |
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