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dhdy1985

铜虫 (小有名气)

[求助] 能带结构和态密度分析

各位老师，好。我做了一个材料的表面模型（model1），在其基础上添加了活性组分（在表面负载金属氧化物）。得到了model2和model3.并分析了它们的电子结构。得到了三个的能带结构和态密度（如附件）.随着活性组分的添加，能隙变小，这与实验观察一致。但是有老师说MS给出的能隙并不一定准确。例如，model3好像存在一个杂质能级，而这个的能隙值就不能从MS软件直接读取。另外，对于model1，相比于干净表面，其在原来带隙中间多了许多小的态密度分布。那么，我的问题是该如何分析上述模型的能隙值大小？杂质能级如何判断并怎么样影响能隙值的确定？此外，负载活性组分的模型其能带变化具有什么特点？感谢您的帮助！
能带结构和态密度分析
model1.jpg


能带结构和态密度分析-1
model2.jpg


能带结构和态密度分析-2
model3.jpg
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1楼2013-09-20 17:35:41
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漫天飘雪

版主 (知名作家)

认真做事，踏实做人

【答案】应助回帖

★
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sunyang1988: 金币+1, 谢谢交流 2013-09-20 23:20:43
能隙大小除了计算和实验之外，我想不出来还有别的方法知道
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http://blog.sciencenet.cn/u/pfliu89
2楼2013-09-20 17:46:35
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hsl1987

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
�?互閫氳繃绱鍒嗗厜鍏夊害璁℃祴閲?�?告敹鍏夎氨锛屽�?缁?杩噊rigin鐢诲浘锛屽?互璁＄畻鍑烘??鏂欑殑绂?甯﹀搴︼紝鍏蜂綋鐨勮绠楁柟娉曞?互鎵剧浉鍏虫枃鐚�傘�傘�傚笇鏈涘浣犳湁甯姪銆�

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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我就是我
3楼2013-09-20 17:56:21
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zmrright

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
sunyang1988: 金币+1, 谢谢交流 2013-09-20 23:20:52
我以前做了一个半导体的时候，也是这样的情况。有两种方法解决：1. 调整smearing，然后计算，得出结果和一个容易找到的实验结果来对比，确定合适的smearing。。。2.  找个实验结果，然后直接对DOS进行放大处理，就是拉伸。我有个文章就是这样的，欢迎拍砖。。。。http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/sia.5253/full
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做好自我，不枉此生
4楼2013-09-20 19:23:26
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zmrright

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

有用的话，欢迎引用一下，抗萨米达
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做好自我，不枉此生
5楼2013-09-20 19:25:16
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shlw0531

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
sunyang1988: 金币+1, 谢谢交流 2013-09-20 23:21:02
右边的图是总DOS,PDOS更能清晰反映所谓杂质能级。
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6楼2013-09-20 22:31:00
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