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loveguo

铁虫 (小有名气)

[求助] 二氧化硅接枝改性

Sample Text
想在二氧化硅表面接枝改性,例如硅烷偶联剂KH570等,请问在二氧化硅表面的多个羟基中,接枝改性两个甚至两个以上的其他基团,是否可行?
另外,在之前个改性中接枝量非常小,只有百分之七左右,二氧化硅是在120℃下干燥过夜后使用的。请问是否因为二氧化硅前期处理不当造成的。
请不吝赐教,先谢过了。
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loveguo

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 神奇丑蛋 at 2013-09-03 16:51:20
有可能是干燥温度太高了,文献上一般都是50-60摄氏度,你试试降低点温度

我以前没做过无机粒子改性。我是担心是不是因为我处理不够,导致纳米粒子表面的羟基不能很好的暴露出来,或者不能被活化
5楼2013-09-04 16:36:22
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神奇丑蛋

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
loveguo: 金币+3 2013-10-30 16:30:54
有可能是干燥温度太高了,文献上一般都是50-60摄氏度,你试试降低点温度
昨天是历史,今天是开始,明天谁都不好使!!!!!
2楼2013-09-03 16:51:20
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hijackhit

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2013-09-04 08:03:39
loveguo: 金币+5 2013-10-30 16:30:31
loveguo: 金币+7 2013-10-30 16:31:14
你用什么体系改性,水性还是有机,百分7不少了,不知道你的改性比多少。
烘干温度,如果改性是水性体系,是有点高了,多此一举,本来氧化硅羟基就多,怕脱水。
另外改性过程条件也有关,偶联剂不排除自聚的可能。
3楼2013-09-03 17:52:57
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loveguo

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by hijackhit at 2013-09-03 17:52:57
你用什么体系改性,水性还是有机,百分7不少了,不知道你的改性比多少。
烘干温度,如果改性是水性体系,是有点高了,多此一举,本来氧化硅羟基就多,怕脱水。
另外改性过程条件也有关,偶联剂不排除自聚的可能。

我主要是想知道,是不是可以在同一个SiO2表面接上两个或者两个以上的其他单体,做成像POSS一样的纳米粒子
4楼2013-09-04 16:34:11
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