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zj1013

木虫 (正式写手)

[求助] 请教一个关于XPS,以及UPS表征的问题 已有2人参与

我想请教关于XPS,UPS表征的问题
1,样品必须导电吗?
2,表征薄膜的功函,膜厚度与表征功函的结果有关系吗?
我现在遇到一个问题,我合成的NiO表面用氧等离子处理之后,器件结果表明功函与PEDOT相当,不处理器件开路电压很低
但是UPS表征结果并不能体现出氧等离子处理功函改变这个过程
是不是因为在UPS表征时,抽真空的过程中NiO氧等离子处理效果已经蜕化,所以表征结果无论氧等离子处理都一样(有没有常压情况下表征UPS或者快速表征UPS的)
做成厚膜,不是器件优化条件的NiO薄膜厚度,这个现象不明显,结果是氧等离子处理之后功函降低,但是仍与器件效果不符
是不是因为膜厚所以氧等离子处理效果蜕化的慢,UPS结果有一定体现,但是在高真空下,NiO处理效果只是有部分体现

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永不言弃
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benbenjun

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

引用回帖:
6楼: Originally posted by cord at 2013-08-23 01:21:12
1, 导电不导电均可。有些单位测试为了方便可能需要导电衬底,具体要求跟测试单位确认为准。
2,表面功函数跟厚度没有关系。UPS测不出这么低的灵敏度吧,你的材料表面处理之后在器件中表现更好,或许的原因是接触界 ...

测出功函后,与半导体的LOMO的关系是啥那?
没有最好,只有更好
9楼2015-05-05 15:29:24
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
zj1013: 金币+5, 你看看这个网页http://www.rkiinstruments.com/pdf/AC2.pdf,它上面说功函的表征是可以在空气中表征的,这是怎么回事 2013-08-19 21:58:22
XPS不需要一定导电,不导电一般需要校正C1s峰,整个平移一下数据,导电就不用了一般,UPS没用过倒是,不过常压应该是不可能的,这两种技术都属于要求真空度不是一般高的,因为光电子本身的信号都太弱了,有气体分子一类干扰很难拿到正确信号的
2楼2013-08-19 21:44:05
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖


zj1013: 金币+1, 我现在只有通过KFM表征表面静电电势(也就是功函),体现我这个过程了,但是表面静电电势并不能体现功函与HOMO之间能极差变化过程,体现绝缘体到P-型半导体的转化 2013-08-19 22:31:26
这个样的还真没见过,不知道精度怎么样,不过好像他是靠把氧气离子化然后再探测的,不是一般的直接检测电子,不知道会不会有误差
3楼2013-08-19 22:06:26
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changyuan218

木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
zj1013: 金币+1, 你怎么复制别人的话 2013-08-20 09:42:34
这个样的还真没见过,不知道精度怎么样,不过好像他是靠把氧气离子化然后再探测的,不是一般的直接检测电子,不知道
4楼2013-08-19 22:39:58
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