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zj1013木虫 (正式写手)
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请教一个关于XPS，以及UPS表征的问题 已有2人参与
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我想请教关于XPS，UPS表征的问题 1，样品必须导电吗？ 2，表征薄膜的功函，膜厚度与表征功函的结果有关系吗？ 我现在遇到一个问题，我合成的NiO表面用氧等离子处理之后，器件结果表明功函与PEDOT相当，不处理器件开路电压很低 但是UPS表征结果并不能体现出氧等离子处理功函改变这个过程 是不是因为在UPS表征时，抽真空的过程中NiO氧等离子处理效果已经蜕化，所以表征结果无论氧等离子处理都一样（有没有常压情况下表征UPS或者快速表征UPS的） 做成厚膜，不是器件优化条件的NiO薄膜厚度，这个现象不明显，结果是氧等离子处理之后功函降低，但是仍与器件效果不符 是不是因为膜厚所以氧等离子处理效果蜕化的慢，UPS结果有一定体现，但是在高真空下，NiO处理效果只是有部分体现 每个回答有效的好心人，5个金币 |
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