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关于金属钴的请化学吸附测活性位数
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测金属钴的活性位数,文献上记载用氢化学吸附是先还原,然后在还原温度的时候抽真空,再降温在某一温度下脉冲吸附测得吸附量(J. AM. CHEM. SOC. 128, 2006, 3957)。 我有点不懂其中的细节,高温下抽完真空后就换位惰性气氛吹扫,再降温在某一温度下脉冲吸附?还是降温后在真空气氛下进行的吸附? 这种操作跟H2-TPD在结果上会有什么不同? 求高手解答,最好给出具体的测试操作细节,谢谢 |
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楼主没看明白文献中测分散度的方法,文中用的是Micromeritics ASAP 2010C,采用的是静态吸附法测定的分散度,不是动态的脉冲吸附。静态吸附是在高温抽真空后降温,在指定温度下直接进行吸附,原理和氮气吸附的类似。首先得到一条吸附量随压力变化的曲线(吸附量为化学吸附加上物理吸附),可以通过外推到零点的方式得到单层的化学吸附量。也可以再次抽真空,将物理吸附氢抽走,在进行物理吸附,再得到一条吸附量随压力变化的曲线(物理吸附),将之前的曲线减去之后的曲线,得到的就是化学吸附的线,然后得到单层化学吸附量。 至于动态脉冲吸附法,一般是会用到惰气吹扫的步骤。 |
4楼2013-07-31 11:09:21
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pumpkinlan
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