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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » [请教]介孔二氧化硅合成与氨基修饰
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匿名

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1楼 2013-07-27 17:54:10
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chem234

铜虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by duping.001 at 2013-07-28 17:10:17
我记得我当时做的时候没用通氮气，直接回流的，在50 mL，1mg/mL的二氧化硅悬浮液中加入100 μL的APTES回流4h。

请问加入APTES需要逐滴加入还是直接加入，APTES加入量与SiO2比例大约多少合适，修饰后团聚现象严重吗
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9楼2014-08-24 17:06:06
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refnew

专家顾问 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
kunpeng1782: 专家考核, 谢谢您的指导 2013-07-29 22:14:59
不同方法差异很大，啥时候变色无所谓
回流的温度，APTES多少影响不大
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2楼2013-07-28 10:09:58
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duping.001

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
我很囧: 金币+5, ★有帮助 2013-07-29 18:47:46
我记得我当时做的时候没用通氮气，直接回流的，在50 mL，1mg/mL的二氧化硅悬浮液中加入100 μL的APTES回流4h。
赞一下 回复此楼
既然琴瑟起，何以笙箫默？
3楼2013-07-28 17:10:17
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匿名

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4楼2013-07-29 18:47:27
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