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vwangvhaov木虫 (小有名气)
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Zata点位怎样测~介孔二氧化硅表面修饰氨基！做过的请帮忙
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小弟最近做二氧化硅表面修饰氨基，在红外谱图上已经看到了Si-OH峰的减少与N-H峰的出现，为什么去做zata点位的时候点位还是负的？？？ 是我制备样品的问题？（将硅球分散到水中）或者是测zata点位时某些参数没有调试好？（别人帮做，自己没用过这个仪器） 请做过氨基修饰的朋友帮忙诊断下！ 请做过硅球Zata点位的朋友给个提示！ 小弟不胜感激！！！ |
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 月牙儿的百宝箱 | 硅 二氧化硅 |
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| 表面有没有修饰其他物质，因为zeta电位测得是整个胶体溶液的电位值，不同的修饰剂之前可能会影响其值得正负，受浓度影响比较大。使用仪器测试时，要选对溶质以及溶剂，也要选对所用的测试管。我做的是PEG以及PEI才（含有氨基）共同修饰的氧化铁纳米粒子，将修饰好的氧化铁纳米粒子分散到去离子水中，溶剂选的Water 溶质选的是fe3o4。测得电位值一般都在30mV-35mV。 |
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vwangvhaov3楼2013-05-29 16:31:52
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| 在红外谱图上已经看到了Si-OH峰的减少与N-H峰的出现，但是电荷为负，只能说明你修饰上去的氨基不够多而已，如果想让电荷变正，不妨将氨基化硅烷基试剂反应时间以及投入量加大，还有就是楼主采用的是什么修饰方法，后修饰还是共水解？ |
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8楼2013-06-03 22:58:01
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