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1楼 2013-07-22 23:12:24

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jiangyirui

新虫 (小有名气)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 395.5
帖子: 71
在线: 36.7小时
虫号: 1536641
注册: 2011-12-14
专业: 无机纳米化学

【答案】应助回帖

E-beam和Sputter的差别如下：
1.两者原理不同，如2楼所说的
2.膜的粘附性及结合的效果也不同，E-beam镀膜的粘附性教差，但是膜的均匀性好；Sputter的镀膜溅射能量大，和基底的粘附性也好，但是膜会有颗粒也就是均匀性稍差。
3.E-Beam通常配备晶振片，对于已经校准的材料，10nm以下控制效果好，相反Sputter溅射出来的膜会有颗粒，10nm的厚度很难达到精准可控。
4.实用的材料不同，磁控溅射有射频电源，可以做绝缘材料，也可以做金属；但是E-beam只能蒸镀金属。
请问您是哪个学校的？最近想做E-beam,方便的话回复下。

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2楼2014-06-13 08:59:43

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