| 查看: 2231 | 回复: 6 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
thermoelectric木虫 (小有名气)
|
[求助]
如何得到大厚度均匀性好的光刻胶掩膜
|
||
| 现在在做深硅刻蚀，但是设备的选择比相对较小，所以想加大胶的厚度，4-5微米，请问该怎么选择胶和对应的旋涂工艺才能保证胶的均匀性。先不用考虑胶分辨率的问题。 |
回复此楼
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
6楼2013-07-23 14:43:35
yswyx
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
2楼2013-07-22 20:42:06
thermoelectric
木虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 1850.3
- 散金: 47
- 红花: 1
- 帖子: 73
- 在线: 156.4小时
- 虫号: 412235
- 注册: 2007-06-25
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
3楼2013-07-22 21:51:23
thermoelectric
木虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 1850.3
- 散金: 47
- 红花: 1
- 帖子: 73
- 在线: 156.4小时
- 虫号: 412235
- 注册: 2007-06-25
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
4楼2013-07-22 21:53:29
