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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 信息科学 » 电子科学 » 半导体器件仿真工艺参数 求教 交流
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evanbossccp

木虫 (正式写手)

[交流] 半导体器件仿真工艺参数 求教 交流

大家好：

我们在做一些器件仿真时，发现层次的掺杂浓度和杂质的注入深度，对仿真结果影响很大，很难较准确地预计我们的器件性能，我们知道foundry对工艺参数是严格保密的，不方便透露，有做过工艺的或者有这方面经验的牛人们来交流，和大家分享下下这方面的经验，比如N+大概能打到多深，PWELL的掺杂水平在什么范围等等。。

不同工艺的技术和指标不一样，我的附件中列了三种不同的工艺下地一部分层次，牛人能解决鄙人的该问题，我另外种种有赏

希望大家踊跃讨论。。。。。。
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  • 附件 1 : 工艺参数问题.docx
    • 2013-04-11 20:28:03, 16.73 K

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1楼 2013-04-11 20:28:10
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evanbossccp

木虫 (正式写手)
引用回帖:
9楼: Originally posted by ausir at 2013-05-06 23:56:07
只有在Foundry 做PIE的人才能知道具体的工艺参数。但是现在的CMOS工艺，都是通过多次Ion Implantion完成的，单一工序的条件根本无法用来模拟器件的特性。
现在的Fab的SPICE Model，大部分都是通过实际器件进行参数 ...

有道理的
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10楼2013-05-08 00:03:38
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1414675229

铜虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
这个真心不知道，祝楼主早些得到答案
赞一下 回复此楼
2楼2013-04-12 12:07:15
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gzl9901

铁杆木虫 (文坛精英)
祝福，祝福，祝福，抢沙发
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3楼2013-04-12 18:38:05
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nobady

金虫 (正式写手)
★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
evanbossccp: 金币+2, 有帮助 2013-04-13 08:33:21
well的VT implant浓度直接决定了device的Vt，也会影响mobility；Halo，LDD, S/D IMP当然都会对device I-V curve 有很大影响！
如果你是design house，可以从foundry拿到SPICE data，和foundry的工艺密切相关
赞一下 回复此楼
7楼2013-04-12 23:55:01
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