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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 请教制备薄膜时不同的退火方式
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破晓初春

金虫 (正式写手)

[求助] 请教制备薄膜时不同的退火方式

磁控溅射制备薄膜，需要退火，想用以下三种方法：
1.溅射完后，800度通氧气一小时，再降到室温
2.溅射完后，从800度降到一个固定的温度（如300度），设定一个固定的时间（比如一小时），此过程通氧气，然后再降到室温
3.溅射完后，取出薄膜放入管式炉中通氧气800度下一小时，再降到室温
请教下第二种方法算退火吗？如果算的话这三种方式分别是什么？原位退火or？？？有什么区别和影响？
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1楼 2013-03-07 12:46:11
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wangbo1966

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
破晓初春: 金币+10, 是为了补充氧量提高结晶度，第二种是边通氧气边降温度，直至300度，再在300度保温一小时（不断氧气），然后断氧降到室温，这样效果会比较差么？ 2013-03-08 06:34:52
chemlh: 欢迎积极交流 2013-03-11 14:04:23
三种都算退火。
要看你退火的目的，如果是为了提高结晶度和补充氧含量，第一种方法的原位退火效果应该最好，第三种次之，而第二种效果最差。因为是在300℃保温，原子扩散能力相对较弱，因此对结晶度和补氧量的作用都相对较低。
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10楼2013-03-07 17:01:18
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 欢迎积极交流 2013-03-07 15:46:23
破晓初春: 金币+3 2013-03-08 06:35:41
陶瓷吧   不知道你试过没   我觉得3种方法如果是对同一个样品 应该没有差别
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何必看破
2楼2013-03-07 13:26:34
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wu1008

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
破晓初春: 金币+3 2013-03-08 06:36:17
最大的不同是退火温度不一样

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼2013-03-07 14:07:57
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破晓初春

金虫 (正式写手)
zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~ 2013-04-08 08:36:19
引用回帖:
3楼: Originally posted by wu1008 at 2013-03-07 14:07:57
最大的不同是退火温度不一样

请问in-situ- 和 post-anneal 分别是指哪种退火方式？
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4楼2013-03-07 14:54:13
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