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破晓初春

金虫 (正式写手)

[求助] 请教制备薄膜时不同的退火方式

磁控溅射制备薄膜,需要退火,想用以下三种方法:
1.溅射完后,800度通氧气一小时,再降到室温
2.溅射完后,从800度降到一个固定的温度(如300度),设定一个固定的时间(比如一小时),此过程通氧气,然后再降到室温
3.溅射完后,取出薄膜放入管式炉中通氧气800度下一小时,再降到室温
请教下第二种方法算退火吗?如果算的话这三种方式分别是什么?原位退火or???有什么区别和影响?
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wangbo1966

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
破晓初春: 金币+10, 是为了补充氧量提高结晶度,第二种是边通氧气边降温度,直至300度,再在300度保温一小时(不断氧气),然后断氧降到室温,这样效果会比较差么? 2013-03-08 06:34:52
chemlh: 欢迎积极交流 2013-03-11 14:04:23
三种都算退火。
要看你退火的目的,如果是为了提高结晶度和补充氧含量,第一种方法的原位退火效果应该最好,第三种次之,而第二种效果最差。因为是在300℃保温,原子扩散能力相对较弱,因此对结晶度和补氧量的作用都相对较低。
10楼2013-03-07 17:01:18
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
chemlh: 欢迎积极交流 2013-03-07 15:46:23
破晓初春: 金币+3 2013-03-08 06:35:41
陶瓷吧   不知道你试过没   我觉得3种方法如果是对同一个样品 应该没有差别
何必看破
2楼2013-03-07 13:26:34
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wu1008

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
破晓初春: 金币+3 2013-03-08 06:36:17
最大的不同是退火温度不一样

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
3楼2013-03-07 14:07:57
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破晓初春

金虫 (正式写手)

zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~ 2013-04-08 08:36:19
引用回帖:
3楼: Originally posted by wu1008 at 2013-03-07 14:07:57
最大的不同是退火温度不一样

请问in-situ- 和 post-anneal 分别是指哪种退火方式?
4楼2013-03-07 14:54:13
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