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[交流]
[size=6][font=黑体]关于DMF的知识产权问题，请大家讨论！！[/font][/size]
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我公司有一产品欲做DMF和EDMF文件（当然下一步还要通过FDA和COS），目前该产品主要有以下2个工艺： 1、该产品的化合物专利在国外于2004年已经失效，其合成工艺路线成本高，污染大为有关物质很难达到目前国外刚更新（2006年更新的）的标准。 2、该产品的原专利厂家于2003年9月在中国和美国分别申请了新的合成工艺路线，于2006年3月都获得授权。 目前我们存在的问题：我们是从2003年初就开始研发该产品，且其合成工艺于专利路线2很相似（存在很大侵犯专利可能），如果这样，我们做DMF的工艺是只能采用专利路线1还是必须开发其他工艺？如果开发其他工艺，时间可能很急。 是否可以采用专利路线2？不行的话如何避开专利？ 希望做过DMF等国外认证的，有类似经历的XDJM能够不吝赐教，提供帮助！谢谢。。。急啊。。。急啊。。。。Sample Text |
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