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linberg木虫 (正式写手)
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溅射硅靶的时候表面出现斑点
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最近射频溅射硅靶的时候生长速度特别快，而且靶表面出现很多小坑，并且出现泛白的斑点，就是图上红圈内的那些。并且原来溅射后整个靶表面都很光洁，呈镜面反射，就像最中心那一块一样，现在最优溅射区域溅射后发白，呈漫反射了。有谁知道是怎么回事吗？PS：靶上面本来没那些的小坑的，最近换靶头之后变成这样了。 对了，我的溅射条件是Ar气氛，气压0.8Pa，溅射前的背底真空是5×10-4Pa。  1.jpg [ Last edited by linberg on 2012-11-5 at 16:44 ] |
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5楼2012-11-12 21:07:12
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