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关于在构建表面吸附结构时吸附物的位置问题
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关于在构建表面吸附结构时，吸附物的位置小弟有几个简单的问题不懂。文献说的fcc位和hcp位指什么，Atop位貌似很好懂。还有就是比如说构建Au111面吸附NO，其中NO如果是atop位吸附，是建好Au表面然后随便放置NO吗？N原子和Au原子的距离是怎么得到的。还有就是按照文献的结构建好后弛豫，人家的NO弛豫后N-O间的角度有了很大的变化，我做弛豫后只是长度变了，角度没变，已经是三个方向弛豫了，不知道有没有什么原因导致的。 希望知道的朋友可以指教一二，也可以推荐给小弟几本书学习，谢谢各位了~  |
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2楼2012-10-27 04:20:46
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首先你要理解什么叫fcc什么叫hcp，他们的本质区别是什么 fcc和hcp本质区别是，一个是abcabc密堆积，一个是abab密堆积。 所以在吸附中，如果吸附物吸附在abc堆积的c位置，就是fcc，在aba的a位置，就是hcp 距离这个是经验问题，一般取1.5-2A，然后relax后验证一下 如果和文献不和，需要核实自己relax在global minimum还是local minimum上。 PS:N-O之间有啥角度？ |
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冷小漠3楼2012-10-27 08:33:26
非常感谢 4楼2012-10-28 13:37:05
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