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QUEDEGE

铜虫 (初入文坛)

[求助] 氧化钒热敏薄膜电阻问题

我是用反应磁控溅射法制备VOx薄膜的,想问一下做VOx热敏薄膜的同学们,大家做出的膜的电阻大概是多少,退火处理后阻止的变化趋势,我做出的薄膜退火空气气氛退火30分钟阻值下降了两个数量级,这正常么,阻值降低的主要原因是什么
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aslanchen

银虫 (小有名气)


【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-08-06 07:34:22
你是想做VO2吧,VO2 在室温的电阻的确很大,
你在空气中退火30min,VOx会被氧化吧?
2楼2012-08-05 23:56:28
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QUEDEGE

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by aslanchen at 2012-08-05 23:56:28
你是想做VO2吧,VO2 在室温的电阻的确很大,
你在空气中退火30min,VOx会被氧化吧?

我不要求VO2含量有多高,只要有高的TCR就行了,只是纠结于为什么退火后电阻下降那么厉害,就算氧化成五氧化二钒也不至于下降两个数量级啊
3楼2012-08-06 19:15:33
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aslanchen

银虫 (小有名气)


【答案】应助回帖

★ ★
QUEDEGE: 金币+2, 有帮助, 哎 好吧 可是XPS精度不够啊 2012-08-07 20:51:46
我觉得要搞清楚为什么,你就要知道退火前后的VOx到底都是什么物质,VOX物质太多,不知道是谁,就不好说了
4楼2012-08-06 22:16:36
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aslanchen

银虫 (小有名气)


【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by aslanchen at 2012-08-06 02:16:36
我觉得要搞清楚为什么,你就要知道退火前后的VOx到底都是什么物质,VOX物质太多,不知道是谁,就不好说了

为何要XPS, XRD 就可以基本确定物象了
5楼2012-08-07 21:41:14
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QUEDEGE

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by aslanchen at 2012-08-07 21:41:14
为何要XPS, XRD 就可以基本确定物象了...

做XPS为了看薄膜中钒的价态,做XRD的话有的晶粒太小或者含量太少看不太出来
6楼2012-08-07 23:45:08
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