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高手指点----有关旋涂
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hqh2012
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[交流]
高手指点----有关旋涂
二氧化硅旋转涂胶仪旋涂时看到同心圆且无六臂。旋涂后表面不光滑,看似有颗粒状东西在上面,看到有颜色,斑驳。这是何原因?求高手指点,不胜感激!!!!!
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2012-05-14 19:29:25
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hongliushu03
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hqh2012: 金币+2, 谢谢!望继续帮助
2012-05-16 10:58:02
同心圆是不是象水波纹一样从圆心处逐渐向外扩散到边缘?
表面处理干净了吗?
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3楼
2012-05-15 23:39:20
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hongliushu03
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胶粘度高吗?
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4楼
2012-05-15 23:41:00
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hqh2012
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3楼
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hongliushu03
at 2012-05-15 23:39:20:
同心圆是不是象水波纹一样从圆心处逐渐向外扩散到边缘?
表面处理干净了吗?
是的,在旋转时像波纹一样的一个个同心圆。硅片表面用洗液清洗后氮气吹扫的。然后用表面处理剂处理硅片,乙醇清洗的。敢问大侠是否曾遇到类似问题?给指点下呗,不胜感激!
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5楼
2012-05-16 10:56:27
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有可能是清洗不彻底,或者表面浸润性不好导致的
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6楼
2012-05-16 12:44:08
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hongliushu03
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硅片的清洗有一套特殊的流程,不知道的清洗液是什么成分。
不过常我用的清洗流程是:
乙醇超声清洗20min, 丙酮超声清洗20min,去离子水漂洗,浓硫酸三份加一份双氧水80摄氏度超声清洗至硅片表面无气泡,去离子水漂洗,20%的稀氢氟酸溶液去掉表面氧化层,去子离子水漂洗干净后放在乙醇中备用(每一片单独存放,存放时间不要太长)。
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7楼
2012-05-16 12:48:16
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7楼
:
Originally posted by
hongliushu03
at 2012-05-16 12:48:16:
硅片的清洗有一套特殊的流程,不知道的清洗液是什么成分。
不过常我用的清洗流程是:
乙醇超声清洗20min, 丙酮超声清洗20min,去离子水漂洗,浓硫酸三份加一份双氧水80摄氏度超声清洗至硅片表面无气泡,去离子 ...
用20%的HF 去掉表面氧化层,为什么要这样做?会导致表面不光滑吗?然后这样就可以旋涂了吗?
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8楼
2012-05-16 19:14:06
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hongliushu03
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hqh2012: 金币+1, 谢谢
2012-05-17 09:26:36
这个氧化层也就几个原子的厚度,抛光硅片用上述方法处理后表面粗糙度在纳米量级
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9楼
2012-05-16 19:36:54
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hqh2012
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9楼
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hongliushu03
at 2012-05-16 19:36:54:
这个氧化层也就几个原子的厚度,抛光硅片用上述方法处理后表面粗糙度在纳米量级
再麻烦大侠,清洗完毕后,硅片表面不用再用其他东西处理就可以旋涂了吗?还是有硅表面处理剂,如何操作?不胜感激!
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11楼
2012-05-17 09:29:03
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ssxliudc
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hqh2012: 金币+1, 非常感谢您的提醒!
2012-05-18 08:35:00
溶胶配制均匀吗?超声除起泡,过滤除杂质,如果粘性大,同心圆应该正常。
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13楼
2012-05-17 23:56:28
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strive123123
2楼
2012-05-14 20:15
yingying1588
10楼
2012-05-16 22:14
祝福祝福
hqh2012
12楼
2012-05-17 21:48
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10楼
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Originally posted by
yingying1588
at 2012-05-16 22:14:46: 祝福祝福
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