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膜层制备与刻蚀
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本实验室可以进行 磁 控 溅 射、电 子 束 蒸 镀、LPCVD镀膜加工，材料包括Si, SiO2, Si3N4, ZnO, AZO,Al2O3, Al, Ag, Au, Cu, Cr, Mo等，厚度一般在15-1000nm。 有晶振可同步进行膜厚测试，4英寸范围内不均匀性<5%。 IBE、RIE刻蚀，可刻蚀各种金属、非金属材料。 赵工 zyy44138172@126.com 15108299816 |
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