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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 玻璃上蒸发硅，怎么提高蒸发速率
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驿站

金虫 (小有名气)

[求助] 玻璃上蒸发硅，怎么提高蒸发速率

各位，我在玻璃衬底上蒸发硅，蒸了3个小时，发现厚度还是几十纳米，大家有什么好的方法让我在三个小时里，达到1微米。谢谢了
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1楼 2012-03-06 23:42:10
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foxs2

木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
wbcui(金币+2): 多谢帮助 2012-03-09 23:17:19
蒸镀、磁控溅射都可以镀一两个微米吧？只能说你哪个操作步骤出问题了。
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2楼2012-03-08 10:40:22
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驿站

金虫 (小有名气)
引用回帖:
楼: Originally posted by foxs2 at 2012-03-08 10:40:22:
蒸镀、磁控溅射都可以镀一两个微米吧？只能说你哪个操作步骤出问题了。

谢谢你。其实这个实验我已经实验一个星期了，功率达到极值900w，如果再大的话，坞舟都被熔断了，我分析了可能是腔室太大了。
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3楼2012-03-09 22:00:42
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
悠然zx11(金币+1): 多谢参与 2012-03-13 10:42:38
引用回帖:
3楼: Originally posted by 驿站 at 2012-03-09 23:00:42:
谢谢你。其实这个实验我已经实验一个星期了，功率达到极值900w，如果再大的话，坞舟都被熔断了，我分析了可能是腔室太大了。

不知道你能否调整一下基片和靶之间的距离？
距离小一点有助于提高沉积速率

并且，你应该用RF吧，调整一下反射功率，有可能因为反射功率太大，导致沉积速率低
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4楼2012-03-09 23:19:04
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驿站

金虫 (小有名气)
引用回帖:
楼: Originally posted by wbcui at 2012-03-09 23:19:04:
不知道你能否调整一下基片和靶之间的距离？
距离小一点有助于提高沉积速率

并且，你应该用RF吧，调整一下反射功率，有可能因为反射功率太大，导致沉积速率低

谢谢你
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5楼2012-03-13 10:12:31
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