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1楼 2011-12-19 10:55:15

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ssssss0527

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aishan(金币+1): 感谢交流 2011-12-19 11:21:41

这个要具体看做什么了吧~~
简单的话 PVD就挺好的电镀蒸镀都不麻烦效果也还成就是有时候结合力稍微差点~~

2楼2011-12-19 11:08:21

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wydmhy

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具体问题具体分析。

3楼2011-12-19 11:12:56

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ljc8828

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engle028(金币+1): 感谢参与 2011-12-19 15:02:04

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3楼: Originally posted by wydmhy at 2011-12-19 11:12:56:
具体问题具体分析。

基体是什么材料？不同的基体用不同的方法，比如在铝、铜就可以用多弧离子镀膜，在一些结合力要求不高的可以用磁控溅射镀膜。

4楼2011-12-19 14:59:09

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leongoall

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zhyq8767(金币+1): 感谢交流！ 2011-12-19 19:21:35

首先要看是什么基底，是否需要加热等，其次对沉积速率有无要求，一般说来，CVD的乘积速率比PVD要快，但没有PVD易控。PVD还可以加偏压这些来改变微观结构

趁年轻，多折腾！曾年轻，折腾过？！

5楼2011-12-19 19:19:00

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isaiah3383

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请问楼主在金属表面镀膜是中间处理过程吗，后期还要做什么处理

6楼2011-12-19 21:54:35

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邵欣

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楼: Originally posted by ljc8828 at 2011-12-19 14:59:09:
基体是什么材料？不同的基体用不同的方法，比如在铝、铜就可以用多弧离子镀膜，在一些结合力要求不高的可以用磁控溅射镀膜。

基体是纯金属铍，我想要膜和基体之间能够牢固的结合

7楼2011-12-20 08:34:51

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楼: Originally posted by leongoall at 2011-12-19 19:19:00:
首先要看是什么基底，是否需要加热等，其次对沉积速率有无要求，一般说来，CVD的乘积速率比PVD要快，但没有PVD易控。PVD还可以加偏压这些来改变微观结构

纯金属铍作为基底，首先要保证二者之间稳定的结合，我看CVD大部分都是用来镀化合物的膜，纯金属用的比较少

8楼2011-12-20 08:37:15

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邵欣

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楼: Originally posted by isaiah3383 at 2011-12-19 21:54:35:
请问楼主在金属表面镀膜是中间处理过程吗，后期还要做什么处理

不是，镀膜之后这个表面的处理过程就结束了

9楼2011-12-20 08:39:22

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8楼: Originally posted by 邵欣 at 2011-12-20 08:37:15:
纯金属铍作为基底，首先要保证二者之间稳定的结合，我看CVD大部分都是用来镀化合物的膜，纯金属用的比较少

哦，原来是做第一壁材料的啊，呵呵

请问是国内哪个单位的啊？铍貌似有毒哦，难道是在铍上面镀钨？我见过用CVD镀钨的，原料好像是用WF6。但是要跟铍稳定结合似乎不大可能，两者的热膨胀系数相差很大