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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊

直接镀上去应该没问题,不过如果要退火或者做TDS等需要加热的分析,估计就会有问题。一般做研究都用单晶硅做基底,尽量减少膜中的杂质和缺陷,便于解释实验结果。我们在单晶硅上先镀铜,再镀钨,复合膜在后续退火过程中1000K左右就会破裂,这也让我们很郁闷!

多交流!
趁年轻,多折腾!曾年轻,折腾过?!
11楼2011-12-20 17:01:31
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邵欣

新虫 (小有名气)

引用回帖:
: Originally posted by leongoall at 2011-12-20 14:40:37:
哦,原来是做第一壁材料的啊,呵呵

请问是国内哪个单位的啊?铍貌似有毒哦,难道是在铍上面镀钨?我见过用CVD镀钨的,原料好像是用WF6。但是要跟铍稳定结合似乎不大可能,两者的热膨胀系数相差很大

CVD的方法有很多种,我不确定选择哪个更好,但是PVD方法中的离子镀应该比较适合在金属基底上镀纯金属的薄膜吧
12楼2011-12-21 09:39:27
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ningbocat

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

看基体的情况,PVD比较广泛
13楼2013-04-01 20:28:37
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13438995117

新虫 (初入文坛)


【答案】应助回帖

你的问题不确定性太大了,要看你是功能性镀层还是装饰性或者防护性,还要根据你需要的什么镀层来选择。
14楼2013-04-03 10:51:58
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