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邵欣

新虫 (小有名气)

[求助] 金属表面镀膜

在金属表面镀金属膜,PVD和CVD哪种方法更适合?
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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊

直接镀上去应该没问题,不过如果要退火或者做TDS等需要加热的分析,估计就会有问题。一般做研究都用单晶硅做基底,尽量减少膜中的杂质和缺陷,便于解释实验结果。我们在单晶硅上先镀铜,再镀钨,复合膜在后续退火过程中1000K左右就会破裂,这也让我们很郁闷!

多交流!
趁年轻,多折腾!曾年轻,折腾过?!
11楼2011-12-20 17:01:31
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ssssss0527

捐助贵宾 (正式写手)

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aishan(金币+1): 感谢交流 2011-12-19 11:21:41
这个要具体看做什么了吧~~
简单的话 PVD就挺好的 电镀 蒸镀 都不麻烦 效果也还成 就是有时候结合力稍微差点~~
2楼2011-12-19 11:08:21
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wydmhy

至尊木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
具体问题具体分析。
3楼2011-12-19 11:12:56
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ljc8828

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


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engle028(金币+1): 感谢参与 2011-12-19 15:02:04
引用回帖:
3楼: Originally posted by wydmhy at 2011-12-19 11:12:56:
具体问题具体分析。

基体是什么材料?不同的基体用不同的方法,比如在铝、铜就可以用多弧离子镀膜,在一些结合力要求不高的可以用磁控溅射镀膜。
4楼2011-12-19 14:59:09
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