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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 求助关于磁控溅射的问题
北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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浅蓝深蓝

铜虫 (初入文坛)

[求助] 求助关于磁控溅射的问题

请问各位虫友：
   用磁控溅射仪有没有什么办法溅射掉基板表层的膜后（如氧化膜），再溅射靶材物质，（基质太过活泼，如果用其他的方法去掉表层后，遇空气后又立即氧化，严重影响性能）。
   据老板说加负偏压可以解决问题，本人刚接触学术研究，才疏学浅，不知道是什么意思，不知道有没有明白这个问题的高人，或者大家有什么方法没？

    这个是不是就是“自溅射”，自溅射又是什么意思呢？
   多谢赐教啊~~~

[ Last edited by 浅蓝深蓝 on 2011-12-11 at 21:14 ]
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1楼 2011-12-11 20:55:57
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浅蓝深蓝

铜虫 (初入文坛)
送鲜花一朵
引用回帖:
楼: Originally posted by feiepeng at 2011-12-12 17:30:44:
溅射氧化层得用射频源，因为一般的氧化物都是不导电的，用之流的话很难产生稳定的电场的，至于加负偏压的话不确定是否可以将之溅掉。

可是要加负偏压的话如何操作呢？
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6楼2011-12-12 23:09:04
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Easony

至尊木虫 (知名作家)

老顽童

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
自溅射就是通过离子轰击把靶材的原子沉积到样品表面，溅射时候是利用等离子体一般用氩气来完成的，氩离子带正电，要向阴极跑，所以靶材就是溅射阴极，阻值？没听过，没有什么阻值，只有电压阈值，就是等离子体激发的电压，大约是500V左右
赞一下 回复此楼
自信，坚持，善良，真实，简单生活，敢爱敢恨！
2楼2011-12-11 21:58:52
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浅蓝深蓝

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
楼: Originally posted by Easony at 2011-12-11 21:58:52:
自溅射就是通过离子轰击把靶材的原子沉积到样品表面，溅射时候是利用等离子体一般用氩气来完成的，氩离子带正电，要向阴极跑，所以靶材就是溅射阴极，阻值？没听过，没有什么阻值，只有电压阈值，就是等离子体激发 ...

你说的是溅射的原理吧？
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3楼2011-12-11 22:05:56
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feiepeng

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
浅蓝深蓝(金币+2): 2011-12-13 13:32:14
溅射氧化层得用射频源，因为一般的氧化物都是不导电的，用之流的话很难产生稳定的电场的，至于加负偏压的话不确定是否可以将之溅掉。
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浅蓝深蓝
roc
4楼2011-12-12 17:30:44
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查看全部 30 个回答
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